Intel tem a primeira máquina para fabricar chips com menos de 2 nanômetros

A Intel anunciou que é a primeira empresa a montar as ferramentas de Litografia Ultravioleta Extrema de Alta Abertura Numérica (EUV High NA) da ASML, marcando um avanço significativo na estratégia da fabricante de chips dos EUA.

Com a montagem completa da máquina, a empresa poderá começar a fabricação de chips com nanômetros menores, e o que se espera é que isso resulte em unidades com menos de 2 nm. Entenda melhor o que é essa máquina e detalhe sobre a tecnologia.

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Intel dando o primeiro passo

A Intel já havia anunciado a compra da grande máquina de fabricação de chips da empresa holandesa ASML. Isso porque atualmente ela é a única empresa capaz de fornecer a importante tecnologia EUV High NA, ideal para os planos da Intel.

Agora, depois de alguns meses, eles anunciaram que a máquina, chamada de Twinscan Exe: 5000 EUV High NA, está finalmente montada. Ela se encontra em uma instalação da Intel localizada em Oregon, nos Estados Unidos e o tamanho surpreende.

Já nas imagens é possível ver que a máquina é gigante. De acordo com Rob Kenton, da área de comunicações da Intel, a máquina é maior do que um ônibus de 2 andares e pesa cerca de 150 toneladas. Apesar de já montada, entretanto, a máquina só começará a funcionar de verdade a partir do ano que vem.

A introdução da ferramenta de litografia de Alta NA promete uma revolução na capacidade de fabricação de chips da Intel. Com a capacidade de imprimir recursos até 1,7 vezes menores do que as ferramentas EUV existentes, a tecnologia High-NA abrirá as portas para a produção de transistores ainda menores e densos, impulsionando significativamente a eficiência e o desempenho dos chips.

Ou seja, a Intel poderá começar a introduzir a tecnologia Intel 14A, que é o equivalente a 1,4 nm. Mas, ainda há um longo caminho a percorrer, já que existem os riscos. Uma litografia menor do que 2 nm, por exemplo, faz com que o tamanho tão pequeno e a proximidade entre eles possa causar instabilidade.

O papel da tecnologia EUV High NA

É exatamente por causa desses percalços que o uso dessa tecnologia se torna importante e essencial. Ela não é exatamente nova, já sendo usada na indústria de semicondutores há algum tempo. A ideia principal é usar uma luz com comprimento de onda curto ideal para a fabricação de chips que tenham menos de 10 nm.

Isso faz com que eles tenham uma abertura numérica menor do que a padrão, e com isso garante mais precisão na captura e também no direcionamento de luz. É isso que permite que os transistores possam ser construídos em tamanhos 1,7x menores do que os atuais, e a importância para a Intel.

Tudo parece mesmo cena de filme, já que a montagem da máquina requer um posicionamento certo de diversos espelhos para garantir que o feixe de luz chegue ao wafer da forma e na posição certinha. Inclusive, além do tamanho, esse também foi um dos motivos para que a montagem tenha sido tão demorada.

Mesmo montada, ainda existem alguns ajustes a serem feitos, e com isso o que se espera é que a Intel só comece a fabricação dos chips no final de 2024 ou começo de 2025. No ano que vem a empresa já tem planos de fabricar os primeiros chips Intel 18A, de 1,8 nm, e também no padrão Intel 14A, mas nesse caso primeiro em escala experimental, para só então passar para 10A.

Fonte: tomshardware