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Japão desenvolve forma mais barata de fazer chips de 1,4 nm sem litografia EUV

DNP e Canon desenvolvem tecnologia de nanoimpressa para chips de 1,4 nm com 90% menos consumo de energia e custo muito menor que litografia EUV.

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A Canon e a japonesa Dai Nippon Printing (DNP) acabam de dar um passo que pode abalar o domínio da ASML na fabricação de chips avançados. A DNP desenvolveu materiais para produzir semicondutores de 1,4 nm usando nanoimpressa — técnica que dispensa os scanners de litografia EUV que custam centenas de milhões de dólares.

A DNP planeja iniciar a produção em massa desses materiais em 2027. Eles funcionam em conjunto com as máquinas de nanoimpressa da Canon, que já enviou a primeira unidade para a Intel testar no final de 2024.

Como funciona a nanoimpressa

Mãos enluvadas segurando uma wafer de silício com reflexos iridescentes em sala limpa, com padrão de chips visível na superfície

Diferente da litografia tradicional, que usa lasers potentes para queimar padrões no silício, a nanoimpressa funciona como um carimbo. Um molde com o desenho do chip é pressionado diretamente sobre o wafer, transferindo o circuito de forma mecânica.

O ganho é duplo. Primeiro, o consumo de energia cai até 90% comparado aos equipamentos convencionais. Segundo, o preço: cada máquina da Canon sai por cerca de US$ 6,4 milhões — dezenas de vezes menos que um scanner EUV da ASML.

A litografia responde por 30% a 50% do custo total de fabricação de um chip, segundo fontes japonesas. Se a nanoimpressa escalar, o impacto pode ser significativo para quem não consegue bancar infraestrutura de ponta.

Intel, Samsung e TSMC observam de longe

A Intel foi a primeira a receber uma máquina de nanoimpressa da Canon para testes. Mas outras gigantes também demonstraram interesse. Samsung, TSMC, Micron e Kioxia acompanham o desenvolvimento da tecnologia, ainda que sem compromissos públicos.

Máquina Canon FPA-1200 Fine Pattern Aligner em sala limpa com iluminação amarela, usada na fabricação de chips

O motivo da cautela é claro: essas empresas investiram bilhões em fábricas otimizadas para litografia EUV. Migrar para uma nova técnica exige validação completa de rendimento, precisão e volume de produção. Ninguém troca de rota sem ter certeza de que a aposta vale a pena.

Japão tenta retomar protagonismo

Canon e Nikon já foram líderes globais em equipamentos de litografia. Nas últimas duas décadas, perderam terreno para a ASML, que hoje controla 90% do mercado de scanners avançados. A nanoimpressa é a tentativa japonesa de reconquistar espaço em um setor estratégico.

A Fujifilm também anunciou planos de desenvolver materiais para essa tecnologia. O movimento sugere uma aposta coordenada da indústria japonesa para criar uma alternativa viável aos equipamentos europeus.

O que vem pela frente

A DNP promete entregar materiais para nanoimpressa em escala comercial a partir de 2027. Se a tecnologia funcionar conforme o esperado, pode abrir caminho para fabricantes menores ou novos entrantes que não conseguem arcar com os custos da litografia EUV.

Mas a ASML segue firme. Sua tecnologia é testada, integrada e confiável. Substituir isso não é só questão técnica — é também de confiança, tempo de validação e compatibilidade com processos já estabelecidos.

 

 

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Foto de William R. Plaza
Postado porWilliam R. Plaza

Editor-chefe no Hardware.com.br, aficionado por tecnologias que realmente funcionam. Segue lá no Insta: @plazawilliam Elogios, críticas e sugestões de pauta: william@hardware.com.br

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