Strained Silicon

O termo Strained Silicon refere-se a um processo aplicado no waffer de silício usado na fabricação de processadores, que consiste em "esticar" a superfície do wafer de silício, colocando-o sobre um substrato especialmente desenvolvido. Aumentando a distância entre os átomos do wafer, é reduzida a resistência à passagem dos impulsos elétricos. Essa técnica não tem nenhum efeito direto sobre o desempenho, mas ajuda a reduzir o consumo e a dissipação térmica do processador, além de (pelo menos em teoria) permitir que ele seja capaz de operar a freqüências mais elevadas.

O Pentium 4 com core Prescott foi o primeiro processador Intel a ser produzido utilizando Strained Silicon e a técnica continua sendo usada nos processadores atuais, contribuindo para a redução no consumo elétrico dos processadores.

Vale lembrar que o uso de Strained Silicon é apenas um fator com relação à eficiência do processador, mas está longe de ser o único. Um exemplo é o próprio Pentium 4 Prescott. Devido ao aumento no número de estágios do pipeline e das melhorias feitas nas unidades de execução, o Prescott dissipa mais calor que um Northwood (a geração anterior do Pentium 4, produzido usando uma técnica de 0.13 micron) do mesmo clock, mesmo sendo produzido em uma técnica de 0.09 micron. Se isso lhe soa estranho, basta ter em mente que apesar da técnica mais avançada de produção, ele possui 125 milhões de transístores, contra apenas 55 milhões do Northwood.

O TDP (Thermal Design Power, que no caso dos processadores Intel indica o consumo típico do processador) do Northwood é de 3.4 GHz é de 89 watts, enquanto o do Prescott da mesma freqüência é de 103 watts, ou seja, 14 watts a mais. Ou seja, o Strained Silicon ajuda, mas não faz milagres :)